
Samsung et SK Hynix cherchent une autre voie face à la limite physique de la DRAM
La mémoire DRAM atteint une frontière technique délicate. Depuis des décennies, les fabricants ont réussi à augmenter la densité et à réduire le coût par bit en miniaturisant les cellules, en affinant la lithographie et en améliorant les matériaux. Cependant, avec la génération 1d, associée à la septième vague de DRAM en technologie 10 nm et à l’avancée vers des géométries de plus en plus proches des limites physiques, cette stratégie montre ses limites. Samsung Electronics et SK Hynix, deux géants sud-coréens de la mémoire, tracent désormais des chemins distincts pour dépasser cette impasse. Samsung explore une DRAM empilée verticalement en 16 couches, tandis que SK Hynix travaille sur une architecture 4F² Vertical Gate qui s’appuie sur une architecture proche




