
Intel inaugure le High-NA EUV sur Panther Lake et met la pression sur TSMC et Samsung
Intel Foundry a commencé à fabriquer une partie de ses processeurs Intel Core Ultra Series 3, connus sous le nom de Panther Lake, avec les machines High-NA EUV d’ASML sur certaines couches du processus Intel 18A. Le fondeur devient ainsi le premier à livrer un produit logique à volume élevé avec cette nouvelle génération de lithographie, même si la majorité du silicium continue de dépendre d’équipements EUV traditionnels. Les essentiels du High-NA EUV sur Panther Lake en 30 secondes : Intel utilise le High-NA EUV pour certaines couches de Panther Lake, fabriqué en Intel 18A. Les rendements obtenus sont comparables à ceux des machines EUV NXE traditionnelles, selon ASML. La production reste compatible avec d’autres équipements : toutes les couches




