ASML a atteint une dimension boursière sans précédent pour une entreprise européenne. La société néerlandaise, unique fournisseur commercial des équipements de lithographie EUV utilisés par des fabricants comme TSMC, Samsung et Intel pour produire des semi-conducteurs avancés, a franchi cette semaine une capitalisation flottante proche de 674 milliards de dollars en intraday, avant de clôturer le mercredi 3 juin autour de 668 milliards. En termes nominaux, elle dépasse ainsi le record établi par Novo Nordisk en 2024, lorsque le groupe pharmaceutique danois avoisinait les 650 milliards de dollars.

Ce jalon ne s’explique pas uniquement par l’enthousiasme général autour de l’intelligence artificielle. ASML est devenue l’un des maillons les plus difficiles à substituer dans la chaîne mondiale des semi-conducteurs. Chaque nouvelle génération d’accélérateurs d’IA, de mémoire avancée ou de processeurs de pointe dépend, à un moment donné de leur fabrication, d’équipements capables d’imprimer des structures de plus en plus petites sur des wafers de silicium. C’est là que la lithographie EUV transforme ASML en un goulet d’étranglement industriel.

Les analystes parient sur une capacité EUV accrue

Le dernier élan boursier est survenu après que JPMorgan et Morgan Stanley ont relevé leurs objectifs de cours sur ASML. JPMorgan a porté son estimé à 1 900 euros par action, contre 1 515 euros précédemment, tandis que Morgan Stanley l’a porté à 1 660 euros, contre 1 400 euros. Les deux banques maintiennent une recommandation favorable, soutenues par l’idée que l’entreprise pourrait produire plus de systèmes EUV à ouverture numérique faible que le marché n’anticipait.

Selon JPMorgan, ASML pourrait livrer plus de 110 systèmes EUV à faible NA sans ajouter de nouvelle capacité bâtie, dépassant les environ 90 unités que certains investisseurs considéraient comme une limite raisonnable. Ce chiffre est significatif, puisque ASML avait indiqué en avril espérer expédier environ 60 systèmes EUV low-NA en 2026, avec un potentiel porté à au moins 80 en 2027.

De son côté, Morgan Stanley a relié une partie de sa confiance accrue aux signaux d’expansion donnés lors de son assemblée annuelle en avril. La société a expliqué que le nouveau campus à Brainport Industries Campus, à Eindhoven, progressera par étapes, avec un début des travaux prévu pour le troisième trimestre 2026 et l’arrivée des premiers employés au premier trimestre 2028.

Le goulet d’étranglement de l’intelligence artificielle

La position d’ASML est difficile à comparer avec celle d’autres géants de la technologie. La société ne vend pas de puces comme NVIDIA, ne fabrique pas de wafers comme TSMC, et ne conçoit pas de processeurs grand public. Son rôle est antérieur et plus discret : elle fournit les machines permettant aux fabricants de produire des composants de pointe.

La lithographie EUV utilise une lumière ultraviolette extrême pour tracer des motifs microscopiques sur les wafers. Sans ces équipements, les processus de fabrication des nœuds les plus avancés seraient bien plus difficiles, coûteux ou longs. C’est pourquoi ASML est devenue un investissement étroitement lié à l’infrastructure physique de l’IA. Si les centres de données ont besoin de plus de GPUs, et que ces GPU nécessitent des chips avancés, alors les usines ont besoin de capacités de lithographie renforcées.

Déjà en avril, la société avait révisé ses prévisions de revenus pour 2026 pour atteindre une fourchette de 36 à 40 milliards d’euros, avec une marge brute attendue de 51% à 53%. ASML a terminé le premier trimestre avec 8,8 milliards d’euros de ventes nettes et 2,8 milliards d’euros de bénéfice net, témoignant de la forte demande dans une période de pression sur la capacité de production des semi-conducteurs.

La paradoxe est qu’ASML reste loin des valorisations des géants américains des puces et logiciels, malgré la dépendance indirecte de nombreux acteurs à ses machines. NVIDIA, Microsoft, Apple ou Alphabet ont largement dépassé le billion de dollars de valorisation, alors qu’ASML vient de battre un record européen. La différence reflète à la fois la taille des marchés finaux et le fait que ASML opère dans un secteur industriel d’une complexité extrême, aux cycles longs et à capacité limitée.

Un monopole technologique avec des rivaux encore lointains

ASML bénéficie d’une position quasi exclusive dans la lithographie EUV, mais il ne faut pas confondre son hégémonie actuelle avec une immunité permanente. Plusieurs projets tentent de contourner ou de défier son avantage. Substrate, une startup américaine soutenue par des investisseurs comme Founders Fund et In-Q-Tel, a levé 100 millions de dollars pour développer une technologie de lithographie aux rayons X basée sur des accélérateurs de particules. Canon, de son côté, défend depuis des années la nanoimpression comme alternative pour certains procédés, tandis que la Chine cherche des moyens de réduire sa dépendance à des équipements soumis à des contrôles à l’exportation.

Le problème pour tous ces acteurs est le même : il ne suffit pas de démontrer une technique prometteuse. La fabrication avancée de semi-conducteurs exige performance, reproductibilité, précision, faible taux de défauts, intégration aux procédés existants et capacité à fonctionner en production massive pendant plusieurs années. Remplacer un scanner EUV d’ASML dans une usine à haute production ne concerne pas uniquement le coût par machine, mais l’écosystème complet.

De plus, ASML ne reste pas inactive. La transition vers l’High-NA EUV, avec des systèmes comme la plateforme EXE, vise à permettre des nœuds encore plus avancés au cours de la prochaine décennie. Ces équipements sont bien plus coûteux que les systèmes low-NA actuels, certains estimant leur prix autour de 380 millions de dollars, mais ils promettent de réduire les étapes du procédé et de faciliter la scalabilité géométrique pour les chips de nouvelle génération.

Intel a déjà installé un système High-NA EXE 5200B pour ses processus 14A, tandis que TSMC adopte une posture plus prudente, analysant le moment où cette technologie sera économiquement viable en production. Cette différence montre que, même dans l’industrie avancée, tous les clients ne migrent pas au même rythme. Le coût de chaque étape technologique est considérable, et la rentabilité dépend du volume, du rendement par wafer et de la demande finale.

Le record d’ASML révèle quelque chose de plus profond qu’une simple hausse boursière : l’Europe ne compte pas beaucoup d’acteurs capables de peser dans l’économie numérique globale, mais ASML en est une exception. Sa valeur n’émane pas d’une application grand public ou d’une plateforme publicitaire, mais d’une machine industrielle incroyablement complexe, devenue indispensable pour l’IA, les centres de données, les puces mobiles, l’automobile avancée et la défense technologique.

La grande question est de savoir combien de temps elle pourra continuer à augmenter sa production sans mettre en tension sa propre chaîne d’approvisionnement. Si les analystes ont raison et qu’ASML parvient à augmenter la livraison de ses systèmes EUV, cela donnera un souffle à l’industrie des semi-conducteurs. Sinon, la lithographie continuera à constituer l’un des principaux freins physiques à l’expansion de l’IA.

Questions fréquemment posées

Pourquoi ASML est-elle devenue la société européenne la plus valorisée ?

Parce qu’elle est le seul fournisseur commercial de machines EUV, une technologie indispensable à la fabrication des chips les plus avancés. La demande croissante en semi-conducteurs pour l’intelligence artificielle a renforcé sa position stratégique et dopé sa valorisation boursière.

Qu’est-ce que la lithographie EUV ?

Une technologie de fabrication de semi-conducteurs qui utilise la lumière ultraviolette extrême pour imprimer des motifs microscopiques sur des wafers de silicium. Elle permet de produire des processeurs et des mémoires avancés avec une densité de transistors accrue.

Que disent JPMorgan et Morgan Stanley sur ASML ?

Les deux banques ont relevé leurs objectifs de cours. JPMorgan estime qu’ASML pourrait livrer plus de 110 systèmes EUV low-NA sans augmenter sa capacité bâtie, tandis que Morgan Stanley souligne l’expansion prévue à Eindhoven et la solidité des expéditions.

Une autre entreprise peut-elle remplacer ASML dans la lithographie EUV ?

Il semble peu probable à court terme dans le domaine de la fabrication avancée à haute cadence. Des alternatives telles que la nanoimpression de Canon ou la lithographie par rayons X de Substrate sont en développement, mais doivent encore faire leurs preuves en termes de performance, fiabilité et intégration industrielle à grande échelle.