
Applied Materials et Intel cherchent à accélérer les puces d’IA avec des interconnexions avancées et un empilement 3D
Applied Materials et Intel ont renforcé leur collaboration pour développer de nouvelles technologies de fabrication de semi-conducteurs destinées aux futures générations de puces pour l’intelligence artificielle (IA). Annoncé le 6 octobre 2026, cet accord vise à améliorer les transistors, les interconnexions électriques et l’encapsulation avancée grâce à la technologie Foveros d’Intel, dans le but d’augmenter la densité des connexions entre composants, d’optimiser l’alimentation électrique et de mieux gérer la chaleur. Les clés des puces IA en 30 secondes Applied Materials et Intel collaboreront sur de nouvelles technologies pour les transistors, les interconnexions et l’encapsulation de semi-conducteurs. La collaboration combinera les centres de recherche des deux sociétés en Californie et en Oregon. Une des axes de développement sera le empilement 3D



