
Les États-Unis injectent jusqu’à 150 millions de dollars dans xLight pour révolutionner la lithographie EUV
La lutte pour le prochain grand saut dans la fabrication de puces a connu un nouveau protagoniste. La startup américaine xLight, soutenue par l’ancien directeur général d’Intel, Pat Gelsinger, a signé une Letter of Intent (LOI) avec le Département du Commerce des États-Unis pour bénéficier de jusqu’à 150 millions de dollars d’incitations fédérales dans le cadre de la loi CHIPS et Science. L’objectif : développer une nouvelle source de lumière pour la lithographie extrême ultraviolet (EUV), basée sur un laser à électrons libres (FEL), en alternative aux sources actuelles à plasma laser utilisées par les systèmes d’ASML. Bien que la LOI ne soit pas contraignante, elle marque une étape majeure pour la branche R&D du programme CHIPS sous l’ère Trump,




