
DNP et Canon secouent le tableau de la lithographie : un gabarit « 1,4 nm » qui promet de réduire les coûts énergétiques… sans garantie d’adoption
La carrera hacia los nodos más avanzados está marcada desde años por un concepto clave: EUV. La litografía ultravioleta extrema se ha convertido en el cuello de botella más costoso —y energéticamente exigente— en la fabricación de chips de última generación. Por ello, cada vez que surge una alternativa mínimamente viable, el mercado presta atención. Esta semana, Dai Nippon Printing (DNP) ha presentado una innovación significativa: una plantilla para nanoimprint lithography (NIL) capaz de transferir patrones con líneas de 10 nm, lo que la compañía vincula con procesos equivalentes a la generación de 1,4 nm. DNP asegura que su objetivo es lograr fabricación en masa en 2027 y ha establecido una meta comercial: incrementar las ventas de NIL hasta 4.000




