
La Chine change d’approche pour atteindre ASML dans la course à la lithographie EUV
La Chine cherche à réduire sa dépendance vis-à-vis d’ASML dans la fabrication de semi-conducteurs avancés. L’un des défis majeurs ne consiste plus uniquement à construire une machine de lithographie complète, mais à résoudre l’un de ses composants les plus complexes : la source de lumière ultraviolette extrême (EUV). Les progrès réalisés par plusieurs équipes chinoises indiquent différentes architectures pour générer cette lumière, bien qu’il reste encore un écart significatif par rapport aux performances nécessaires à la fabrication de chips à l’échelle commerciale. Les clés de la course chinoise à la lithographie EUV en 30 secondes ASML maintient son leadership commercial dans la lithographie EUV, utilisée pour produire les puces les plus avancées. La Chine développe diverses technologies pour générer la




