Intel accélère avec EUV High-NA et a déjà produit 30 000 wafers en seulement trois mois
Les nouveaux scanners d’ASML permettent à Intel d’avancer vers son nœud 14A et de regagner du terrain dans l’industrie des semi-conducteurs Intel a franchi une étape cruciale dans son ambitieux projet de retrouver son leadership dans la fabrication de puces. La société a annoncé que ses deux scanners EUV High-NA d’ASML ont traité 30 000 […]
Rusia prévoit de révolutionner le marché des scanners EUV avec une technologie plus abordable et efficace
La Russie a annoncé un projet ambitieux pour développer des scanners EUV (lithographie ultraviolette extrême) promettant d’être plus économiques et plus faciles à fabriquer comparés aux équipements avancés d’ASML, leader mondial dans ce domaine. Dirigé par l’Institut de Physique des Microstructures (IPM RAS), cet effort vise à garantir l’indépendance technologique de la Russie et à […]
Les États-Unis investissent 825 millions de dollars pour créer leur propre accélérateur EUV et réduire leur dépendance vis-à-vis de l’Europe
Le Département du Commerce des États-Unis, en collaboration avec Natcast, opérateur du Centre National de Technologie des Semi-conducteurs (NSTC), a annoncé la création d’une installation de recherche et développement (R&D) dans le Albany NanoTech Complex, New York. Cette initiative, qui bénéficie d’un investissement de 825 millions de dollars dans le cadre du programme CHIPS for […]
Imec démontre des avancées dans les structures logiques et DRAM utilisant la lithographie EUV à haute NA
Le 7 août 2024, Imec, un leader mondial dans la recherche et l’innovation en nanoélectronique et technologies numériques, a présenté des résultats significatifs dans le domaine de la lithographie EUV (Ultraviolet Extrême) à Haut NA (Aperture Numérique). Ces avancées ont été réalisées au laboratoire conjoint ASML-imec de Lithographie EUV à Haut NA à Veldhoven, Pays-Bas. […]