La HBM devient rare : SK hynix reçoit des offres sans précédent
SK hynix reçoit des offres inhabituelles de la part de grandes entreprises technologiques : des propositions pour financer ses lignes de production, voire ses équipements lithographiques. Selon Reuters, certains acteurs tech ont proposé d’investir dans des lignes dédiées et même d’aider à financer des scanners EUV d’ASML. Un interlocuteur résumait la situation sans détour : […]
ASML étend la lithographie EUV : du DUV au High-NA et Hyper-NA
Les machines qui fabriquent les puces les plus avancées au monde sont devenues l’un des éléments les plus délicats de l’économie technologique. Elles ne s’entraînent pas pour des modèles d’intelligence artificielle, n’apparaissent pas dans les centres de données ni n’atteignent directement le consommateur final. Pourtant, sans elles, il n’y aurait pas de processeurs alimentant les […]
SK hynix sécurise son avenir dans l’IA avec une mégacommande EUV à ASML
SK hynix a pris une décision stratégique dans l’un des domaines les plus sensibles de l’industrie des semi-conducteurs : garantir la lithographie EUV dans la compétition pour la mémoire dédiée à l’Intelligence Artificielle. La société sud-coréenne a officialisé l’achat d’équipements auprès d’ASML pour un montant de 7.970 millions de dollars, soit l’équivalent de 11,95 billion […]
Intel et High-NA EUV : la promesse du « saut quantique » bute sur un goulet d’étranglement appelé OPC
La lithographie EUV de haute ouverture numérique (High-NA) se présente depuis plusieurs années comme la clé pour continuer à réduire la taille des composants lorsque le scaling traditionnel commence à se heurter aux limites de la physique. Cependant, dans les cercles techniques et lors de discussions avec des experts, se fait progressivement jour une vision […]
Le «EUv Frankenstein» de la Chine n’a encore fabriqué aucune puce : la lithographie la plus avancée dépend toujours d’une chaîne mondiale presque impossible à reproduire
Une idée digne d’un film d’espionnage technologique : un laboratoire clandestin en Chine, des pièces récupérées ici et là, des ingénieurs travaillant sous de fausses identités, tout cela dans le but obsessionnel de bâtir une machine de lithographie EUV (extrême ultraviolet) capable de fabriquer des puces de pointe sans dépendre de l’Occident. Mais la réalité, […]
Intel et ASML progressent en EUV High NA : l’EXE:5200B dépasse des tests clés et l’industrie envisage déjà des transistors avec des matériaux 2D
La course à la réduction de la taille des transistors — et, par conséquent, à l’amélioration des performances et de l’efficacité des puces destinées aux centres de données, à l’informatique haute performance et aux charges de travail en intelligence artificielle — se joue désormais sur deux fronts simultanément : laminage plus précis et nouvelles architectures/matériaux […]
La Chine montre ses muscles avec un prototype EUV et oblige l’Occident à repenser le « monopole psychologique » de la lithographie
La course mondiale aux semi-conducteurs a vécu pendant des années avec une phrase non écrite mais omniprésente dans les bureaux, laboratoires et marchés : la Chine ne peut pas fabriquer sa propre EUV. Cette idée — souvent plus mentale que technique — soutenait une grande partie de l’équilibre actuel, car la lithographie ultra-violet extrême (EUV) […]
Un prototype EUV en Chine bouleverse le tableau : la clé n’est pas “l’avoir”, mais le faire évoluer
La Chine aurait franchi —du moins en laboratoire— une étape qui, pendant des années, semblait hors de sa portée : la réalisation d’un prototype fonctionnel de lithographie par ultraviolets extrêmes (EUV). L’information, publiée le 16 décembre 2025 par DigiTimes Asia et attribuée à un environnement de R&D basé à Shenzhen, est peu détaillée sur le […]
Le Kirin 9030 confirme le passage de SMIC à N+3 et rapproche la Chine des 5 nm… sans EUV
Le prétendu « déploiement technologique » entre la Chine et l’Occident vient d’accoucher d’un nouveau chapitre. L’analyse du nouveau SoC Kirin 9030 confirme qu’il est fabriqué par SMIC utilisant leur procédé N+3, une évolution de leur précédent N+2 (classe 7 nm) qui, en pratique, rapproche la fonderie chinoise des technologies de 5 nm… sans recourir […]
Les États-Unis injectent jusqu’à 150 millions de dollars dans xLight pour révolutionner la lithographie EUV
La lutte pour le prochain grand saut dans la fabrication de puces a connu un nouveau protagoniste. La startup américaine xLight, soutenue par l’ancien directeur général d’Intel, Pat Gelsinger, a signé une Letter of Intent (LOI) avec le Département du Commerce des États-Unis pour bénéficier de jusqu’à 150 millions de dollars d’incitations fédérales dans le […]