
La Chine franchit une étape clé dans les semi-conducteurs : lancement du premier projet national de photo-protecteur EUV MOR
China ha dado un paso decisivo en la carrera por la soberanía tecnológica en el ámbito de los semiconductores. Durante la Conferencia de Innovación y Desarrollo de Circuitos Integrados 2025, celebrada en Wuxi (provincia de Jiangsu), se anunció el lanzamiento del primer proyecto nacional capaz de producir resinas y fotoprotectores avanzados para litografía EUV. Este avance, centrado en la tecnología MOR (Resist de Óxido Metálico), posiciona a China como el primer país fuera de la órbita de ASML y sus aliados en dominar uno de los componentes más críticos del ecosistema de chips de 5 nanómetros y menores. El contexto: litografía EUV, la frontera técnica La litografía EUV (Extreme Ultraviolet Lithography) es la tecnología mediante la cual se imprimen los




