
Un prototype EUV en Chine bouleverse le tableau : la clé n’est pas “l’avoir”, mais le faire évoluer
La Chine aurait franchi —du moins en laboratoire— une étape qui, pendant des années, semblait hors de sa portée : la réalisation d’un prototype fonctionnel de lithographie par ultraviolets extrêmes (EUV). L’information, publiée le 16 décembre 2025 par DigiTimes Asia et attribuée à un environnement de R&D basé à Shenzhen, est peu détaillée sur le plan technique et ne signifie pas encore la mise en production d’une machine capable de fabriquer des puces, mais marque néanmoins un tournant psychologique important : l’indication que le “noyau” de l’EUV pourrait entrer dans le domaine du réalisable. Dans l’industrie, cependant, la question n’est pas tant de savoir si un prototype existe, mais si celui-ci peut évoluer en un système industriel capable de produire




