
Les États-Unis financent xLight pour lever le goulot d’étranglement d’ASML
Les États-Unis ont choisi d’investir des fonds publics dans l’un des segments les plus critiques de la fabrication avancée de chips : la source lumineuse pour la lithographie EUV. Le Département du Commerce et le NIST ont alloué une aide de 150 millions de dollars à xLight, une startup californienne dirigée par Pat Gelsinger, ancien CEO d’Intel, qui souhaite développer une source EUV basée sur un laser d’électrons libres. Ce mouvement ne signifie pas que les États-Unis disposeront demain d’une alternative complète à ASML. L’entreprise néerlandaise reste la seule capable de produire en volume des scanners EUV commerciaux, une position qui lui confère un rôle unique dans la chaîne globale des semi-conducteurs. L’essentiel est que Washington a concentré son attention




