La Chine accélère son indépendance technologique : SMIC prévoit de compléter sa lithographie de 5 nm en 2025.
La Chine avance vers l’indépendance technologique dans l’industrie des semiconducteurs La Chine fait des progrès significatifs vers son indépendance technologique dans le secteur des semiconducteurs. La société d’État Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC) est en train de finaliser le développement de son procédé de fabrication à 5 nanomètres, avec des prévisions de lancement avant la […]
La Chine défie ASML avec sa propre machine de lithographie EUV pour la fabrication de puces avancées
Un Avancement Inattendu qui Met Fin à la Dépendance Technologique La Chine a accompli une avancée décisive dans la course à la fabrication de semi-conducteurs en développant sa propre machine de lithographie par ultraviolet extrême (EUV), une technologie essentielle pour la production de puces avancées. Ce succès représente un défi direct à ASML, l’entreprise néerlandaise […]
Imec démontre des avancées dans les structures logiques et DRAM utilisant la lithographie EUV à haute NA
Le 7 août 2024, Imec, un leader mondial dans la recherche et l’innovation en nanoélectronique et technologies numériques, a présenté des résultats significatifs dans le domaine de la lithographie EUV (Ultraviolet Extrême) à Haut NA (Aperture Numérique). Ces avancées ont été réalisées au laboratoire conjoint ASML-imec de Lithographie EUV à Haut NA à Veldhoven, Pays-Bas. […]