ASML et le Hyper-NA EUV : la prochaine étape de la lithographie avancée

ASML Hyper-NA EUV lithographie ultraviolette extrême scanner semi-conducteurs

ASML continue de déployer la première génération High-NA EUV, mais l’industrie des semi-conducteurs commence déjà à se tourner vers la prochaine étape : Hyper-NA. Cette technologie constitue une évolution possible de la lithographie EUV 13,5 nm, avec une ouverture numérique supérieure aux systèmes actuels. L’objectif est clair : continuer à imprimer des structures plus petites […]

ASML relève ses prévisions 2026 : l’IA efface le recul chinois

Machine de lithographie EUV ASML dans une salle blanche — prévisions 2026 semi-conducteurs IA

Dans un environnement géopolitique toujours aussi tendu autour des semi-conducteurs, ASML vient de livrer un message sans ambiguïté au marché : la demande mondiale en puces pour l’intelligence artificielle est assez puissante pour compenser, et au-delà, le recul des ventes en Chine. Le fabricant néerlandais d’équipements de lithographie a publié ses résultats du premier trimestre […]