Les entreprises chinoises auraient constitué une réserve de plusieurs centaines de machines de lithographie ultraviolette profonde (DUV) d’ASML, constituant un parc d’équipements capable de soutenir la production de composants avancés alors que Pékin accélère le développement de ses propres technologies. Selon le rapport cité par Global Sources, début 2026, la Chine disposerait d’environ 343 systèmes DUV en immersion, dont environ 270 seraient des modèles ASML Twinscan NXT:1980i.

Les points clés de la réserve chinoise d’équipements DUV en 30 secondes

• La Chine aurait accumulé quelque 343 systèmes DUV en immersion début 2026, dont environ 270 modèles ASML NXT:1980i.
• Les achats se sont accélérés en 2024 et 2025, avec environ 90 et 89 machines acquises respectivement.
• La lithographie DUV, combinée au multipatronage, peut être utilisée pour fabriquer certains chips à 7 nm et mémoire HBM2e.
• Les restrictions imposées par les Pays-Bas compliquent de nouveaux achats, mais certains équipements peuvent encore recevoir des autorisations selon certaines circonstances.
• Cette réserve offre à la Chine le temps de développer des alternatives nationales, en attendant un durcissement continu des restrictions internationales.

Le volume d’équipements accumulés revêt une importance particulière, car la fabrication de semi-conducteurs avancés ne dépend pas uniquement de disposer de la technologie de lithographie la plus moderne. Les usines ont besoin de maîtriser toute une chaîne de processus, depuis la gravure et la dépôt, jusqu’à l’inspection, l’emballage et les outils de conception. Toutefois, posséder un grand nombre de machines DUV peut offrir une capacité supplémentaire pendant plusieurs années.

Pourquoi la lithographie DUV reste utile pour le processus à 7 nm

La lithographie ultraviolette extrême (EUV) attire surtout l’attention quand on parle des procédés les plus avancés, mais les systèmes DUV en immersion demeurent des outils efficaces pour certaines générations de chips.

Le principe consiste à recourir à des techniques de fabrication plus complexes afin d’obtenir des motifs plus fins grâce à des équipements qui, à eux seuls, n’atteignent pas encore les dimensions des procédés les plus avancés. Le multipatronage permet de répéter et de combiner des opérations d’exposition pour fabriquer des structures demandant une précision accrue.

Selon les informations recueillies par Global Sources, des équipements comme l’ASML NXT:1980i peuvent intervenir dans la fabrication de chips logiques en 7 nm et de mémoire HBM2e. Cela ne signifie pas qu’une seule de ces machines peut produire à elle seule un processeur IA complet. La fabrication de telles puces inclut de nombreuses autres étapes et équipements, ainsi qu’un processus industriel capable de garantir de bons rendements.

Il importe de bien distinguer cela, car la disponibilité d’une machine de lithographie ne garantit pas à elle seule la capacité de production massive. La performance des wafers, la disponibilité de la mémoire, l’emballage avancé, ainsi que d’autres phases, peuvent constituer des limites même lorsque la capacité d’exposition est suffisante.

L’accélération des achats en Chine avant le renforcement des restrictions

Le rapport évoque une forte accélération des acquisitions avant que les restrictions internationales ne limitent davantage l’accès à ces équipements.

Les entreprises chinoises auraient acheté environ 90 systèmes en 2024 et 89 en 2025. La dépense totale pour ces achats aurait dépassé 13 milliards de dollars.

Ce chiffre illustre la stratégie à grande échelle mobilisée. Il ne s’agit pas seulement de constituer une réserve pour une usine particulière, mais de disposer d’un parc d’équipements capable d’être réparti entre plusieurs installations et processus selon l’évolution des besoins en production.

Les Pays-Bas ont commencé, dès 2023, à exiger des licences pour certaines exportations de matériel DUV en immersion, et ont par la suite étendu ces restrictions à d’autres modèles. Cependant, ces contrôles n’ont pas empêché complètement certaines opérations : certains envois de systèmes NXT:1970i et NXT:1980i continuent d’être autorisés dans des cas spécifiques.

Cette situation soulève la préoccupation majeure des analystes cités : des équipements initialement acquis pour des processus moins avancés pourraient finir utilisés dans des lignes de production plus sophistiquées. La possibilité de réaffecter ces machines à différents sites et fins complexifie l’évaluation du nombre total d’équipements en opération à long terme.

Le développement d’une industrie nationale pour réduire la dépendance à ASML

L’accumulation d’équipements étrangers ne constitue pas la seule voie pour la Chine. Le pays cherche également à développer une industrie nationale capable de produire ses propres systèmes de lithographie et autres composants essentiels pour les fabs de semi-conducteurs.

D’après les sources, SMIC aurait commencé à tester un système DUV en immersion développé localement, tandis que d’autres acteurs nationaux progressent vers la production de leurs propres équipements.

Bien que des différences technologiques subsistent avec ASML en termes de performances, une solution nationale partiellement équivalente pourrait tout de même avoir une valeur stratégique. Disposer de ses propres systèmes permettrait de remplacer certains équipements importés, de maintenir une partie de la production, ou encore de réduire la dépendance vis-à-vis de fournisseurs soumis à des restrictions internationales.

Ce processus ne se limite pas à la simple fabrication de machines. La production de systèmes de lithographie exige la résolution de défis techniques importants : précision mécanique, optique, logiciels, composants spécialisés, et contrôle de processus. Ensuite, il faut intégrer ces machines dans des usines opérant avec des dizaines d’étapes interdépendantes.

Ainsi, le développement d’une alternative nationale peut beaucoup progresser avant qu’une version complète et de haut niveau ne soit disponible pour remplacer totalement les systèmes d’ASML.

L’impact des ventes d’ASML face aux restrictions

Les chiffres de ventes d’ASML illustrent le changement du marché chinois. La Chine représentait 41 % des ventes nettes en 2024, puis 33 % en 2025. Selon les données de Global Sources, cette proportion aurait diminué à 19 % au premier trimestre 2026, puis à 14 % au deuxième trimestre.

Cette tendance correspond à un marché où les restrictions commencent à limiter de nouvelles acquisitions, tandis que les achats effectués avant leur mise en place influent encore sur la capacité industrielle.

Le Center for Technology and Statecraft, cité dans l’article, envisage différents scénarios de capacité future. Par exemple, si la tendance actuelle se poursuit, le parc d’équipements pourrait théoriquement générer jusqu’à 434 millions d’accélérateurs en IA équivalents à un H100 par an en 2035 si les importations continuaient. En revanche, si celles-ci s’arrêtaient dès 2027, ce plafond tomberait à 153 millions.

Il faut préciser que ces chiffres ne prédisent pas une production réelle, mais illustrent l’impact potentiel de l’accès aux équipements sur la capacité de production d’IA. Ils supposent également que d’autres goulots d’étranglement, comme la performance de fabrication ou la disponibilité de certains composants, sont levés.

En somme, posséder un parc d’équipements ne suffit pas à garantir une capacité de production totale : autres facteurs, comme la qualité de fabrication, le stockage de mémoire, l’emballage avancé, ou encore l’accès aux outils de conception, peuvent constituer des limitations majeures.

Une réserve stratégique pour gagner du temps dans la filière chinoise

L’un des principaux avantages d’une grande réserve DUV pourrait résider dans le temps qu’elle permet d’offrir. Si les entreprises chinoises disposent de centaines de machines en fonctionnement potentiel sur plusieurs années, elles peuvent maintenir leur capacité de production tout en travaillant sur le développement technologique national.

Cela modifie aussi la dynamique des restrictions à l’exportation : empêcher de nouvelles acquisitions limite la croissance à court terme, mais n’efface pas instantanément les équipements déjà installés dans les usines chinoises.

Par ailleurs, un durcissement des contrôles pourrait accentuer l’incitation à développer des alternatives nationales. La vitesse à laquelle la Chine parviendra à améliorer ses propres équipements, ainsi qu’à les intégrer efficacement dans des lignes de production compétitives, sera déterminante.

Pour l’industrie de l’intelligence artificielle, cette problématique dépasse la simple question du processus à 7 nm : la fabrication de composants tels qu’accélérateurs IA requiert la coordination de lithographie, matériaux, procédés, mémoire, emballage et conception. Une réserve de DUV ne supprime pas ces contraintes, mais offre aux fabricants chinois plus de marge pour travailler dessus.

Ainsi, la bataille pour la capacité de production de semi-conducteurs ne dépend pas uniquement de l’accès à la technologie la plus avancée, mais aussi de la disponibilité d’équipements suffisants, de leur maintien opérationnel sur la durée, et de la progression technologique en parallèle.

Questions fréquentes

Combien d’équipements DUV aurait la Chine ?

Selon l’analyse, la Chine détiendrait environ 343 systèmes DUV en immersion début 2026, dont environ 270 modèles ASML Twinscan NXT:1980i.

Un équipement DUV peut-il fabriquer des chips en 7 nm ?

Les systèmes DUV en immersion peuvent participer à certains procédés de fabrication à 7 nm via des techniques comme le multipatronage. Cependant, une machine de lithographie constitue une partie d’une chaîne industrielle bien plus large.

Pourquoi la Chine accumule-t-elle des équipements ASML ?

La réserve permet d’assurer la capacité de fabrication durant plusieurs années pendant que la Chine développe ses propres solutions et face aux restrictions sur l’importation d’équipements avancés.

Les restrictions ont-elles stoppé les ventes d’ASML en Chine ?

Pas complètement. Les contrôles néerlandais ont étendu les licences nécessaires à certains équipements, mais certains systèmes peuvent encore recevoir des autorisations dans des cas spécifiques. Selon les chiffres, les ventes d’ASML en Chine ont diminué depuis 2024, mais n’ont pas disparu totalement.