L’Europe souhaite jouer un rôle clé dans la scène mondiale du silicium de pointe. Pour y parvenir, elle mise sur une approche concrète : rapprocher la recherche avancée d’une production quasi-industrielle, où les idées sont testées à l’aide d’outils réels et avec de véritables partenaires. C’est le rôle de NanoIC, la plus grande ligne pilote du European Chips Act, inaugurée à Leuven (Belgique) dans les locaux d’imec, avec une extension de 2 000 m² de salle blanche renforçant une infrastructure de référence pour repousser les technologies au-delà du nm de 2.

L’inauguration a rassemblé des personnalités politiques et industrielles rarement réunies dans un contexte purement technique : la vice-présidente exécutive de l’Union européenne Henna Virkkunen, le Premier ministre belge Bart De Wever, le ministre-président flamand Matthias Diependaele et le CEO d’ASML Christophe Fouquet, parmi d’autres représentants de l’écosystème européen des semi-conducteurs. Le message est clair : la fabrication de puces est devenue une enjeu stratégique, et l’Intelligence Artificielle accélère cette priorité.

Un laboratoire « quasi-usine » pour le saut sous-2 nm

NanoIC se présente comme une ligne pilote conçue pour réduire la distance entre laboratoire et production : un point intermédiaire où entreprises, startups, universités, centres technologiques et fabricants peuvent valider processus, matériaux et designs avec un réalisme supérieur à celui d’un environnement académique traditionnel. Une étape essentielle à l’ère de l’IA : il ne suffit pas de démontrer une avancée ; il faut l’industrialiser rapidement, sans que cela devienne un projet décennal.

Imec souligne que l’extension de Leuven s’inscrit dans une démarche qui dépasse une seule salle blanche. Dans les années à venir, NanoIC intégrera plus de cent nouveaux outils répartis entre imec et plusieurs partenaires européens : CEA-Leti (France), Fraunhofer (Allemagne), VTT (Finlande), CSSNT-UPB (Roumanie) et Tyndall National Institute (Irlande). Parallèlement, une nouvelle expansion est prévue : la construction d’une autre salle blanche de 4 000 m² sur le campus de Leuven.

High NA EUV : la machine qui donne le rythme

Si un élément incarne le « saut » technologique, c’est bien l’équipement de litographie EUV High NA d’ASML. imec a confirmé que le système de nouvelle génération sera disponible à la mi-mars et constituera une pièce maîtresse de l’équipement “best-in-class” déployé dans la ligne pilote.

La Commission européenne qualifie cette étape comme un jalon : une installation européenne intégrant la machine EUV la plus avancée, conçue pour concevoir et fabriquer des puces avec des technologies en dessous — ou au-delà — de 2 nm. Dans le secteur, cela ne se limite pas à une densité accrue, mais ouvre la voie à l’exploration de nouvelles combinaisons de processus, d’intégration et de design, définissant la prochaine génération de systèmes sur puce pour des charges de travail intensives en IA.

Le « moindre » enjeu : les PDK pour éviter l’aveuglement du design

Au-delà du chiffre des –2 nm, un défi pratique se pose : aucun écosystème de semi-conducteurs ne progresse sans outils pour travailler avec des technologies encore en devenir. C’est là qu’interviennent les PDK (Process Design Kits), des kits permettant aux concepteurs et aux équipes d’ingénierie de prototyper et valider leurs choix avant la production de masse.

NanoIC publie actuellement des PDK orientés « explorations de voies futures », ou “pathfinding”. En février 2026, le projet a annoncé un A14 logic PDK et un PDK de mémoire eDRAM, pour accélérer la conception sur des noeuds logiques avancés et optimiser les options de mémoire intégrable sur la puce. Des annonces antérieures mentionnaient également un N2 pathfinding PDK incluant des macros SRAM avancées, crucial pour le design de systèmes complexes sans attendre la maturité complète du processus.

En résumé : l’Europe ne cherche pas seulement à “posséder des machines”, mais surtout à bâtir une communauté capable de concevoir, tester et échouer rapidement grâce à une infrastructure commune.

Financement et écosystème : un pari ambitieux

La Commission européenne estime l’investissement total de NanoIC à environ 2 500 millions d’euros, avec 700 millions de financement de l’UE et autant provenant des gouvernements nationaux et régionaux ; le reste provient de partenaires industriels, dont ASML. L’objectif est d’accélérer le développement de technologies critiques pour l’IA, l’automobile, la santé ou la 6G, tout en renforçant la capacité d’innovation et de fabrication avancée en Europe.

Ce schéma s’aligne avec la philosophie du Chips Act : ne pas simplement faire la course du volume, mais miser sur la capacité technologique, l’accès à un équipement de pointe et une chaîne de valeur moins dépendante de l’extérieur en période de tension du marché.

Au-delà du “chip” : talents et souveraineté technologique

La course vers le sous-2 nm ne se gagne pas uniquement par capital ou machines, mais par les personnes. Dans ses documents, imec insiste sur le fait que NanoIC doit aussi être une plateforme pour former la prochaine génération d’experts : formations, programmes, bootcamps et initiatives avec des centres européens de compétences pour étoffer le vivier d’ingénieurs maîtrisant matériaux, procédés et conception SoC.

Dans un marché où la demande pour des semi-conducteurs avancés est stimulée par l’IA et où les chaînes d’approvisionnement sont sous tension, cette ligne pilote envoie un message stratégique : l’Europe ne veut pas rester simple consommatrice de technologies critiques, mais devenir productrice de savoir et de capacités industrielles.

Questions fréquentes

Qu’est-ce qu’une “ligne pilote” comme NanoIC et en quoi diffère-t-elle d’une usine de fabrication de puces ?
Une ligne pilote est un environnement permettant de tester des processus et des designs avec des outils industriels, sans objectif principal de produire en volume. Elle sert à valider la technologie, réduire les risques et accélérer la mise sur le marché.

Pourquoi le “sub-2 nm” est-il si crucial pour l’Intelligence Artificielle ?
Les charges de travail en IA exigent davantage d’efficacité énergétique et de densité de calcul. Progresser vers des nœuds plus fins et une meilleure intégration permet d’améliorer le rapport performance/watt et d’adopter des architectures plus complexes, tout en respectant les limites thermiques et de consommation.

Quel rôle joue la litographie High NA EUV dans cette compétition ?
High NA EUV est une évolution clé de la lithographie EUV, permettant de graver des structures plus fines avec une précision accrue, essentielle pour continuer la miniaturisation et explorer de nouvelles techniques en fabrication avancée.

Qu’est-ce qu’un PDK et pourquoi est-il vital pour un projet comme NanoIC ?
Les PDK sont des « kits » de conception qui relient la fabrication à la conception : modèles, règles et bibliothèques pour concevoir des puces dans un processus spécifique. Sans eux, la conception se ferait dans le flou, ralentissant le cycle de développement.

Source : IMEC